图片展示
图片展示

磁控溅射薄膜均匀性介绍

发表时间: 2022-09-21 15:17:36

作者: 青州市中拓镀膜机械科技有限公司

浏览:

磁控溅射薄膜均匀性介绍磁控溅射薄膜均匀性一项重要指标,因此要研究影响溅射均匀性的影响因素,以便较好的实现均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中,闭合的磁

磁控溅射薄膜均匀性介绍

磁控溅射薄膜均匀性一项重要指标,因此要研究影响溅射均匀性的影响因素,以便较好的实现均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中,闭合的磁场束缚电子围绕靶面做螺旋运动,在运动过程中不断撞击工作气体氩气电离出大量的氩离子,氩离子在电场作用下加速轰击靶材,溅射出靶原子离子(或分子)沉积在基片上形成薄膜。所以要实现均匀的镀膜,就需要均匀的溅射出靶原子离子(或分子),这就要求轰击靶材的氩离子是均匀轰击的。由于氩离子是在电场作用下加速轰击靶材,所以要求电场均匀。而氩离子来源于闭合的磁场束缚的电子在运动中不断撞击形成,这就要求磁场均匀和氩气分布均匀。但是实际的磁控溅射装置中,这些因素都是很难均匀,这就要研究他们不均匀对成膜均匀性的影响。实际上磁场的均匀性和工作气体的均匀性是影响成膜均匀性的重要因素。磁场大的位置膜厚,反之膜薄,磁场方向也是影响均匀性的重要因素。气压方面,在一定气压条件下,气压大的位置膜厚,反之膜薄。

  怎样解决不均匀性的问题呢?

  1.要尽量保障磁场的均匀性和方向一致性,形成一个相对均匀的空间磁场。

  2.要尽量保障气压上下的均匀性,真空腔体设计时,要考虑真空泵的安装位置,和工艺气体进气方式以及腔体工艺气管的布局。

  3.由于磁场和气压不可能很理想,那么就可以通过气压的不均匀来补偿磁场不均匀,让薄膜均匀相同。

  4.靶基距也是影响均匀性的重要因素。


磁控溅射薄膜均匀性介绍
磁控溅射薄膜均匀性介绍磁控溅射薄膜均匀性一项重要指标,因此要研究影响溅射均匀性的影响因素,以便较好的实现均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中,闭合的磁
长按图片保存/分享
0
图片展示

镀膜设备生产厂家,支持定制

© 2016 - 2099  青州市中拓镀膜机械科技有限公司

首页

关于我们

公司产品

行业知识

联系我们

联系方式

电话:刘经理:15275366886 

           郝经理:18365698121     张经理:13793678006

邮箱:czhongtuo@163.com

地址:山东省青州市弥河工业园

 

 

图片展示

 

青州市中拓镀膜机械科技有限公司

               

联系方式:

           崔经理:15065626060   

           郝经理:18365698121   

           张经理:13793678006 

传真:0536-2513661

邮箱:czhongtuo@163.com
地址:青州市弥河工业园

© 2012 - 2099   青州市中拓镀膜机械科技有限公司

 

扫码关注抢优惠

 

 

服务电话
152 7536 6886
郝经理
183 6569 8121
张经理
137 9367 8006
二维码
扫码加好友
添加微信好友,详细了解产品
使用企业微信
“扫一扫”加入群聊
复制成功
添加微信好友,详细了解产品
我知道了