磁控溅射的优点和应用

磁控溅射的优点和应用

　　磁控溅射的优点：

　　（1）操作简单。在镀膜过程中，只要工作压力、电功率等溅射条件相对稳定，就可以获得相对稳定的沉积速率。

　　（2）沉积速率高。在大多数金属薄膜的沉积中，高熔点金属和氧化物薄膜，如溅射钨、铝薄膜和反应溅射TiO2、ZrO2薄膜，沉积速率非常高。

　　（3）基板低温。它与双极溅射或热蒸发相比，在衬底上的加热较少，利于实现对织物的溅射。

　　（4）这膜很稳定。所制备的溅射膜与基体具有良好的附着力，机械强度也有所增加。

　　（5）这部电影紧凑而均匀。溅射膜的聚集密度普遍增加。从显微照片上看，溅射膜的表面形貌细小均匀。

　　（6）溅射膜具有较好的性能。例如，溅射金属薄膜通常具有良好的光学、电学和一些其他的性能。

　　（7）易于组织批量生产。磁控管电源可根据需要进行扩展，易于实现大面积镀膜。另外，溅射可以连续工作，镀膜过程易于自动控制，可以实现工业流水线操作。

　　（8）工艺环境保护。传统的湿法电镀会产生废液、废渣和废气，造成严重的环境污染。它无环境污染、生产效率高的原理可以解决这一问题。

　　磁控溅射应用：

　　它是目前应用比较广的薄膜沉积技术。这种技术的不断的发展和新型功能薄膜的探索与研究，使该技术的应用扩展到许多生产和科研领域。

　　（1）在微电子领域，作为一种非热镀膜技术，它主要用于难生长、不适合化学气相沉积（CVD）或金属有机化学气相沉积（MOCVD）的材料和薄膜的沉积，可以获得大面积、比较均匀的薄膜。包括欧姆接触Al、Cu、Au、W、Ti等金属电极膜和tin、Ta2O5、TiO、Al2O3、ZrO2、AlN等可作为栅极绝缘层或扩散阻挡层的介质膜。

　　（2）该技术也应用于光学薄膜（如减反射膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃。在透明导电玻璃上溅射SiO2薄膜和掺杂ZnO或insn氧化物（ITO）薄膜。可见光范围内的平均透光率大于90%。

　　（3）在现代机械制造业中，表面功能膜和超薄膜是用这种技术制备的

　　硬脑膜和自润滑膜能增加高涂层产品的表面硬度、复合韧性、耐磨性和高温化学稳定性，从而大大增加涂层产品的使用寿命。

　　除上述领域外，磁控溅射在高温超导薄膜、铁电薄膜、巨磁电阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜等领域的研究也发挥了重要作用。