可分为直流溅射；射频溅射；磁控溅射；反应溅射四种。目前，直流溅射（又称二次溅射）因其溅射压力高、电压高、溅射速率低、薄膜不稳定等缺点而很少使用在直流溅射的后期，
查看更多
主要是指一种需要在高真空下进行的镀膜，包括真空离子蒸发、磁控溅射、感应蒸发等多种方式，主要分为蒸发和溅射。
查看更多
是利用加热待蒸发材料，使其附着在基材表面上，蒸发后冷凝成膜的装置。其原理是利用加热蒸发，将铝雾化均匀的附着在基材的表面，
查看更多
是提供一种卷绕式真空镀金、银、铜、铝等合金层方法，具有电流导通、电磁波防护、屏蔽信号干扰的镀金银铜合金层，
查看更多
是由真空系统、卷绕系统、磁控靶溅射系统、控制系统等部分组成，可实现2μm——300μm的厚度薄膜上溅射镀铜、铅、铝、锡、银等，
查看更多
也就是真空卷绕镀膜。是在真空下应用不同方法在柔性基体上实现连续镀膜的一种技术。它涵盖真空获得、机电控制、
查看更多
是指利用镀膜技术将纸张类进行镀膜的设备，产品主要用于元宝，祭祀、拜祭等。其原理是用蒸发镀膜通过加热铝丝使表面组分
查看更多
是一台高真空综合设备，具有蒸发、溅射多种镀膜方式同时使用功能，本设备主要用于在薄膜基材上连续蒸镀单面、
查看更多