可分为直流溅射;射频溅射;磁控溅射;反应溅射四种。目前,直流溅射(又称二次溅射)因其溅射压力高、电压高、溅射速率低、薄膜不稳定等缺点而很少使用在直流溅射的后期,
查看更多主要是指一种需要在高真空下进行的镀膜,包括真空离子蒸发、磁控溅射、感应蒸发等多种方式,主要分为蒸发和溅射。
查看更多是利用加热待蒸发材料,使其附着在基材表面上,蒸发后冷凝成膜的装置。其原理是利用加热蒸发,将铝雾化均匀的附着在基材的表面,
查看更多是提供一种卷绕式真空镀金、银、铜、铝等合金层方法,具有电流导通、电磁波防护、屏蔽信号干扰的镀金银铜合金层,
查看更多是由真空系统、卷绕系统、磁控靶溅射系统、控制系统等部分组成,可实现2μm——300μm的厚度薄膜上溅射镀铜、铅、铝、锡、银等,
查看更多也就是真空卷绕镀膜。是在真空下应用不同方法在柔性基体上实现连续镀膜的一种技术。它涵盖真空获得、机电控制、
查看更多是指利用镀膜技术将纸张类进行镀膜的设备,产品主要用于元宝,祭祀、拜祭等。其原理是用蒸发镀膜通过加热铝丝使表面组分
查看更多是一台高真空综合设备,具有蒸发、溅射多种镀膜方式同时使用功能,本设备主要用于在薄膜基材上连续蒸镀单面、
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